
申請專利既可以保護(hù)自己的發(fā)明成果,防止科研成果流失,同時也有利于科技進(jìn)步和經(jīng)濟(jì)發(fā)展。人們可以通過申請專利的方式占據(jù)新技術(shù)及其產(chǎn)品的市場空間,獲得相應(yīng)的經(jīng)濟(jì)利益。關(guān)于專利申請很多人有一些誤解,主要體現(xiàn)在:
誤區(qū)一:產(chǎn)品投入規(guī)模生產(chǎn)后才申請專利
許多企業(yè)抱著“穩(wěn)中求進(jìn)”的心理,在產(chǎn)品還未問世、市場還未開拓時,保留了申請專利的權(quán)利;也有企業(yè)誤以為申請專利必須要有實(shí)際的產(chǎn)品或者投入生產(chǎn)的工藝流程,沒有成型或投入生產(chǎn)便無法進(jìn)行。
上述錯誤想法將會導(dǎo)致如下結(jié)果:
(1)專利因喪失新穎性而無法取得授權(quán)。
(2)即使僥幸獲得授權(quán),專利也將處在不穩(wěn)定狀態(tài)中,面臨維權(quán)難的風(fēng)險。
新穎性,是企業(yè)取得專利授權(quán)的要件之一,指在企業(yè)申請專利前,該專利不屬于為公眾所知的技術(shù)、設(shè)計(jì)且沒有在先的抵觸申請。所以一旦投入生產(chǎn)流通,該專利也會因企業(yè)自身的使用行為而公開,喪失新穎性,此時如果遇到他人侵權(quán),企業(yè)因沒有專利權(quán)在手而無法阻止他人搭順風(fēng)車,即便專利僥幸得到授權(quán),訴訟過程中也可能面臨被侵權(quán)者提起無效的風(fēng)險,白白給別人做了嫁衣!
誤區(qū)二:以為取得專利證就可以得到穩(wěn)定保護(hù)
許多企業(yè)認(rèn)為取得了專利證書,其專利便能得到穩(wěn)定的保護(hù),這是多數(shù)專利權(quán)人的認(rèn)知誤區(qū)。在我國,國家知識產(chǎn)權(quán)局對外觀專利及實(shí)用新型專利的申請僅進(jìn)行形式審查,即使在申請之前已有權(quán)利人就同樣的技術(shù)或設(shè)計(jì)特征申請過專利,在后申請的專利也仍有可能被授權(quán)。一旦他人該專利提出無效宣告申請,那么該專利便會面臨被無效的風(fēng)險。
針對這一問題,我們建議企業(yè)在取得專利授權(quán)后可以向國家知識產(chǎn)權(quán)局申請針對該實(shí)用新型或是外觀設(shè)計(jì)的專利評價報告,由該評價報告出具的正面結(jié)論一定程度可作為專利穩(wěn)定性的依據(jù),必要時也可作為應(yīng)對專利侵權(quán)糾紛的證據(jù)。
誤區(qū)三:專利技術(shù)更新迭代不需要再申請專利
部分企業(yè)認(rèn)為申請了一項(xiàng)專利后就能獲得永久的保護(hù),忽視了后續(xù)的研發(fā)工作,或即使是研發(fā)出了新的技術(shù)及改進(jìn)方案,也未再申請專利。
這種錯誤的認(rèn)知不異于未申請專利。在技術(shù)迭代革新迅速的時代,當(dāng)他人對該產(chǎn)品進(jìn)行了新的改進(jìn)并經(jīng)審查取得專利時,便能“反客為主”成為制約原專利權(quán)人的行使權(quán)利的因素,限制原專利權(quán)人專利技術(shù)更新迭代的同時也極易使原專利權(quán)人成為“侵權(quán)方”。
專利申請注意事項(xiàng)
1、申請前的重要事項(xiàng):提供技術(shù)交底書
技術(shù)交底書主要用于記載和呈現(xiàn)技術(shù)相關(guān)內(nèi)容的,包括該技術(shù)的具體實(shí)現(xiàn)方式、如何解決問題的、帶來了何種效果等內(nèi)容,方便專利代理師理解相關(guān)技術(shù)內(nèi)容并進(jìn)行撰寫。
技術(shù)交底的形式不限于文字、圖形、視頻、語音、實(shí)物等,只要能幫助專利代理師理解技術(shù)內(nèi)容的載體均可。
2、注意費(fèi)用繳納時限
申請階段,在申請日起兩個月內(nèi)需繳納申請費(fèi);對于發(fā)明專利,還需在申請日起三年內(nèi)繳納實(shí)審費(fèi)。辦登階段,需在辦登通知書發(fā)文日起兩個月內(nèi)繳納專利年費(fèi)。
3、答復(fù)補(bǔ)正通知書或?qū)彶橐庖娡ㄖ獣?br />
在專利審查階段,審查員可能會發(fā)出補(bǔ)正通知書,或?qū)彶橐庖娡ㄖ獣?,針對通知書的答?fù)是決定專利是否能獲得授權(quán)的重要因素,應(yīng)對答復(fù)時應(yīng)注意:
(1)注意答復(fù)時限。
(2)修改不得超范圍。這個范圍主要是指,對發(fā)明或者實(shí)用新型專利申請的補(bǔ)正或者修改均不得超出原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍,對外觀設(shè)計(jì)專利申請的修改不得超出原圖片或者照片表示的范圍。
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